Szczegóły Szczegóły PDF BIBTEX RIS Tytuł artykułu The Al2O3/TiO2 double antireflection coating deposited by ALD method Tytuł czasopisma Opto-Electronics Review Rocznik 2022 Wolumin 30 Numer 3 Afiliacje Szindler, Marek : Scientific and Didactic Laboratory of Nanotechnology and Material Technologies, Faculty of Mechanical Engineering, Silesian University of Technology, 7 Towarowa St., 44-100 Gliwice, Poland ; Szindler, Magdalena M. : Department of Engineering Materials and Biomaterials, Silesian University of Technology, 18a Konarskiego St., 44-100 Gliwice, Poland ; Orwat, Justyna : Department of Mining, Safety Engineering and Industrial Automation, Silesian University of Technology, 2 Akademicka St., 44-100 Gliwice, Poland ; Kulesza-Matlak, Grażyna : Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences, 25 Reymonta St., 30-059 Krakow, Poland Autorzy Szindler, Marek ; Szindler, Magdalena M. ; Orwat, Justyna ; Kulesza-Matlak, Grażyna Słowa kluczowe antireflection coating ; atomic layer deposition method ; solar cells Wydział PAN Nauki Techniczne Zakres e141952 Wydawca Polish Academy of Sciences (under the auspices of the Committee on Electronics and Telecommunication) and Association of Polish Electrical Engineers in cooperation with Military University of Technology Data 27.09.2022 Typ Article Identyfikator DOI: 10.24425/opelre.2022.141952 ; ISSN 1896-3757